DR. RIMPLER Sun After Sun Mask Deep Repair 30ml, Sondergröße

Die SUN After Sun Mask Deep Repair ist eine kühlende Spezialmaske als kosmetische Erste Hilfe für die übermäßig sonnengestresste Haut und zum Vorbeugen der lichtbedingten Hautalterung. Die Komposition pflanzlicher Aktivstoffe wirkt beruhigend, entzündungshemmend und stimuliert die körpereigenen Reparaturmechanismen. Daher ist sie außerdem eine ausgezeichnete Regenerationsmaske für die anspruchsvolle Haut. Die auf Zuckeremulgatoren basierende Formulatur garantiert eine besonders gute Hautverträglichkeit.

Hauttyp: Mischhaut, Reife / Anspruchsvolle Haut, Trockene Haut, Normale Haut, Sensible Haut

Hauptwirkstoffe: Baumwollsamen-Extrakt schützt vor UV-bedingten Hautschäden, pflegendes Squalan aus der Olive relipidiert die Haut, Extrakte aus der Tomate schützen vor freien Radikalen und stimulieren den Dark-Repair-Mechanismus der Haut, Panthenol stimuliert die Zellneubildung, Öl aus der Crambe zieht schnell ein und macht die Haut geschmeidig

Anwendungshinweise: Nach dem Sonnenbaden auf die gereinigte Haut, bevorzugt Gesicht, Hals und Dekolleté auftragen und für 15-20 Minuten einwirken lassen. Anschließend abwaschen und eine hautzustandsgerechte Ampulle und/ oder Pflegecreme auftragen.

Inhaltsstoffe: Aqua, Prunus Armeniaca Kernel Oil, Crambe Abyssinica Seed Oil, Squalane, Cyclopentasiloxane, Glycerin, Arachidyl Alcohol, Cetearyl Alcohol, Cyclohexasiloxane, Panthenol, Behenyl Alcohol, Gossypium Hirsutum Extract, Solanum Lycopersicum Fruit/Leaf/Stem Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Tocopherol, Helianthus Annuus Seed Oil, Pantolactone, Arachidyl Glucoside, Inulin Lauryl Carbamate, Menthyl Lactate, Dimethicone Crosspolymer, Xanthan Gum, Microcrystalline Cellulose, Cetearyl Glucoside, Cellulose Gum, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Citric Acid, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Alcohol, Parfum